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欠陥の特定

パッケージ内部欠陥の特定

先進パッケージング(2.5D/3D IC、Fan-Out、SiP)や高出力デバイスの普及に伴い、パッケージ内部の構造はますます複雑になり、微小な欠陥が電気的異常や信頼性の失敗を引き起こす可能性があります。非破壊的かつ高解像度の分析技術を通じて、サンプルの完全性に影響を与えることなく、パッケージ内部の潜在的な欠陥の位置を正確に特定することができます。

 

一般的に特定可能な欠陥の種類には、パッケージ内部の亀裂、剥離(Delamination)、空洞(Void)、はんだ点の異常、ダイアタッチ不良、ワイヤーボンドの問題などが含まれます。さまざまな画像および分析手法の相互検証により、故障範囲を迅速に絞り込み、後続の切断、断面分析、根本原因の特定に重要な基準となります。

 

X線写真の例

 

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スキャニングアコースティック顕微鏡

 

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このシステム評価は、成形化合物を使用した半導体電子機器専用に設計されており、以下のような小さな欠陥の検査に最適です。
 
  • パッケージクラック
  • 剥離
  • ダイクラック
  • 樹脂の中の空洞
  • 不良なダイ接着
  • ワイヤーボンディング不良

MA-tekは精密部品と半導体パッケージのために設計されており、業界をリードするイメージング速度と解像度を組み合わせて、包括的な故障解析ソリューションを提供します:

 

  • 極致成像表現:0.5 μm 超高解像度でミクロンレベルの欠陥を正確に捕捉。

  • 高効率の検出速度:最大1000 mm/secのスキャン速度は、生産ラインと実験室の検出効率を大幅に向上させます。

  • 全方位スキャンモード:A-scan、B-scan、C-scan、S-image、T-scanをサポートし、点、線、面から断面までの深度分析のニーズに応えます。

  • 即時動態 3D:提供3Dイメージングとリアルタイム3D表示技術欠陥の位置と空間構造を一目で理解できる。

 

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