晶圓與晶片層級分析
在光電與半導體元件的製造過程中,晶圓(Wafer)與晶片(Chip)階段的材料品質與結構設計,將直接影響元件性能、發光效率與產品可靠度。特別是在 LED、光電元件與先進半導體製程中,磊晶結構、多重量子井(MQW)、薄膜厚度與摻雜分佈等關鍵因素,皆需透過高解析度分析技術進行精密檢測與評估。
閎康科技提供完整的晶圓與晶片層級分析服務,透過電子顯微鏡、材料分析與元素深度剖面技術,深入解析元件的結構與材料組成。透過 TEM、SEM、EDX、SIMS 等先進分析工具,可觀察 LED 磊晶層結構、晶體缺陷與元素分佈情形,協助客戶評估材料品質、釐清製程異常並優化製造流程。
在產品研發與製程優化過程中,晶圓與晶片層級的精密分析可有效提升元件品質與良率,並為光電與顯示技術產品提供更可靠的製程驗證與品質控管基礎。
LED 晶片結構與磊晶層分析
透過 X-ray、SEM、TEM 與 HAADF 等多尺度分析技術,可觀察 LED 晶片中的磊晶結構、多重量子井(MQW)與晶體缺陷,並評估元件製程品質與材料特性。

(a)X-ray image;(b)SEM image;(c)TEM image;(d)TEM image ;(e)TEM image;(f)HAADF image;(g)Optical Profile
LED 元件結構與摻雜深度分析
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(a)Display search : IEK/ITRI -
(b)SIMS doping profile/depth profile