OP 白光干涉儀

白光干涉儀主要利用白光干涉（White Light Interferometry）原理進行表面量測。當白光照射至樣品表面時，部分光線會由樣品表面反射，另一部分則由參考鏡面反射，兩束光線重新疊加後會形成干涉條紋，透過掃描樣品高度並分析干涉訊號變化，系統可計算每個位置的高度資訊，進而重建完整的三維表面形貌，量測模式包括：

• 垂直掃描干涉（Vertical Scanning Interferometry, VSI）：適用於表面起伏較大的樣品，可量測微米至數十微米的高度差，常用於封裝結構或微機電元件分析。
• 相位移干涉（Phase Shifting Interferometry, PSI）：適用於表面較為平坦的樣品，可提供奈米等級高度解析度，常用於表面粗糙度與薄膜量測。

白光干涉儀可提供三維表面形貌、表面粗糙度、階高量測、波浪度分析。