當光源垂直入射至樣品表面的薄膜時，光線會在薄膜與基板界面之間產生反射與透射現象。部分光線會在薄膜表面被反射形成反射光（Reflectance），另一部分光線則穿透薄膜形成透射光（Transmission）。

由於薄膜具有一定厚度，光線在不同界面之間會產生多次反射並形成光學干涉（Optical Interference）。不同厚度的薄膜會造成反射光強度與光譜分布產生特定變化。

儀器透過偵測反射光的光譜強度（%R），並結合光學模型計算，即可推算出薄膜的：

• 薄膜厚度（Film Thickness）

• 多層薄膜結構資訊

可快速量測透明或半透明薄膜的厚度與光學參數。此系統結合顯微鏡光學系統與光譜反射技術（spectral reflectometry），

透過分析薄膜反射光譜即可計算薄膜厚度與光學常數。Filmetrics F40 在量測時，光源照射於薄膜表面，

光線在薄膜不同界面之間產生反射與干涉，儀器透過分析反射光在不同波長下的變化，即可快速計算出薄膜厚度。

該系統可與顯微鏡整合，使量測光點縮小至微米尺度，適合分析微結構區域或圖案化樣品上的薄膜厚度。