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可靠度測驗
09.11
2026
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JESD264 是什麼?矽光子可靠度驗證標準與測試重點

隨著 AI 資料中心、800G / 1.6T 光通訊與共同封裝光學(Co-Packaged Optics, CPO)快速發展,矽光子可靠度驗證已從單一元件測試,走向光學、電性、封裝與材料共同評估,JEDEC 於 2026 年 8 月發布 JESD264《Silicon Photonics Qualification and Reliability Requirements》,為矽光子元件、晶粒、Chiplet 與多晶片模組建立共同的資格驗證與可靠度評估框架。


本文將說明 JESD264 是什麼、為何矽光子不能只沿用傳統 IC 的可靠度思維、標準適用哪些產品架構,以及企業導入矽光子可靠度驗證時,應如何串接 PIC 光電量測、環境與機械應力測試、光學失效定位及材料根因分析。


JESD264 是什麼?

JESD264 的全名為 Silicon Photonics Qualification and Reliability Requirements,是 JEDEC 首份專門面向矽光子資格驗證與可靠度要求的標準,其目的不是以單一測試取代所有既有規範,而是針對矽光子產品的元件組成、封裝架構與失效機制,建立可被設計端、晶圓代工廠、封裝廠、模組商與終端客戶共同理解的驗證框架。


JESD264 關注的不只是元件能否在應力測試後繼續運作,也重視光學性能、光電轉換、耦合介面與異質整合結構是否維持穩定,實際測試條件、樣本數、讀值項目與判定門檻,仍須依產品架構、使用情境及 JESD264 最新版條文制定。

 

為什麼矽光子需要專屬可靠度驗證?

傳統 CMOS 元件的可靠度驗證多以電性、材料與封裝耐受能力為核心;矽光子積體光路(Photonic Integrated Circuit, PIC)則同時整合光波導、光耦合器、分光器、光調變器、光偵測器及相關電路,並可能結合外部或異質整合雷射,只確認電性功能,可能不足以辨識光功率衰減、插入損耗變化、偏振敏感度、回波反射、波長漂移、耦合偏移或局部漏光。


此外CPO、2.5D / 3D Chiplet 與多晶片模組將光學元件、電晶片、基板、光纖與雷射置於更緊密的封裝環境,材料熱膨脹差異、封裝翹曲、黏著與接合品質、光路對準及介面缺陷,都可能在溫度、濕度或機械應力後放大。這正是 JESD264 將矽光子產品獨立建立資格與可靠度要求的原因。

 

 

JESD264 的適用範圍

ESD264 可作為矽光子晶粒、矽光子 Chiplet、晶片組與多晶片模組等產品的資格驗證與可靠度評估依據,標準所涵蓋的配置不只是一顆獨立 PIC,也包含電晶片與矽光子晶粒並排、堆疊或經由基板整合的 1D、2D、2.5D 與 3D 架構。

  • 矽光子晶粒與矽光子 Chiplet
  • 矽光子晶片組與多晶片模組(MCM)
  • 2D、2.5D 與 3D 異質整合架構
  • 遠端雷射、邊緣耦合雷射、Submount 雷射及 III-V 雷射或增益晶片整合
  • 應用於 AI 資料中心、高速網路、光互連、NPO 與 CPO 的矽光子產品
  •  

圖1|JESD264 所示矽光子晶片組配置範例

 

  •  

圖2| JESD264 所示雷射與增益晶片整合配置範例

 

 

JESD264 的核心內容

1. 技術平台與產品資格驗證

JESD264 將資格驗證視為涵蓋技術平台、製程設計套件、新產品或產品家族,以及製程或材料變更後再驗證的系統性工作,重點是先界定哪些元件、製程與設計可共用驗證依據,再確認新架構或變更是否引入新的失效風險。


2. 依產品配置辨識可靠度風險

矽光子晶粒、Chiplet、晶片組、MCM 與不同雷射整合方式的風險並不相同,JESD264 透過產品與整合配置分類,協助驗證團隊把光學介面、電性功能、接合結構、材料與使用環境納入同一套評估邏輯,而不是以單一測試條件套用所有產品。


3. 應力前後的光電性能監測

矽光子可靠度驗證的關鍵,在於建立應力前基準、執行適用的環境或壽命測試,並比較應力後的光學與電性讀值,除功能是否失效外,也要注意參數是否發生不可接受的漂移。若出現異常,再透過光學失效定位、截面觀察與材料分析追查根因。

 

與既有 JEDEC JESD22 標準的關係

JESD264 並不是要取代 JESD22 系列。JESD22 提供溫度循環、高加速溫濕度應力、壽命與機械應力等常用半導體測試方法;JESD264 則進一步從矽光子產品的角度,定義資格驗證時需要考量的裝置範圍、整合配置、可靠度策略與光電性能讀值。


因此企業導入 JESD264 時,通常需要把既有 JEDEC 應力測試方法,與 PIC 的光學及電性量測串接,測試前後除了確認 IC 功能,也要比較 IL、RL、PDL、耦合效率、波長響應、光功率與主動元件特性,才能判斷環境或壽命應力是否造成矽光子性能退化,實際引用的測試方法與條件仍應以標準最新版及產品規格為準。

 

矽光子可靠度驗證的四個觀察面向

  1. 光學傳輸性能:以光波導插入損耗(IL)、回波損耗(RL)、偏振相關損耗(PDL)、波長掃描與耦合效率等指標,建立應力前後的性能基準,這些讀值可反映傳輸衰減、反射、偏振敏感度與耦合穩定性。
  2. 主動光電元件特性:針對光調變器與光偵測器,可透過 E-O/O-E 光電轉換測試、眼圖與誤碼率等量測,確認應力後的轉換效率與高速訊號表現是否維持在規格範圍。
  3. 封裝與異質整合結構:CPO 與 Chiplet 架構中的光路對準、接合介面、焊點、基板、雷射整合與封裝翹曲,可能影響耦合效率與長期穩定性,可依異常型態搭配 2D / 3D X-ray、SAT、外觀與截面分析,確認是否存在空洞、裂縫、分層、偏移或結構變形。
  4. 材料與製程根因:若光損增加或元件性能漂移,問題可能來自光波導側壁粗糙度、材料介面、薄膜厚度、摻雜分布或微結構缺陷,此時需將光電量測結果與 SEM、FIB、TEM、STEM、SIMS、SCM 等材料分析交叉比對,才能由異常現象追溯至失效機制與製程根因。

 

 

JESD264 對 CPO 與 AI 光互連的意義

當矽光子光引擎與高價值運算或交換晶片共同封裝後,單一光學、封裝或材料缺陷都可能提高整體報廢與返工成本,JESD264 提供共同的矽光子可靠度驗證語言,有助於設計公司、Foundry、OSAT、模組商、Hyperscaler 與分析實驗室在供應鏈交接時,對驗證範圍、讀值與風險建立一致認知。


對產品開發而言,其價值不只在量產前是否通過資格驗證,也在於把可靠度思維前移至技術平台、PDK、晶圓、晶粒與封裝階段,越早建立可重複的光電量測基準並定位異常,越有機會降低高成本封裝完成後才發現失效的風險。

 

 

閎康如何支援矽光子可靠度驗證與失效分析

閎康科技(MA-tek)宣布正式建置「矽光子晶圓與晶片光電分析檢測平台」。該平台全面整合光電量測、環境應力、光損定位及奈米級根因分析技術,並導入JEDEC (JESD264)、Telcordia與 MIL-STD等國際權威標準。針對光電整合晶片在開發與可靠度驗證各階段的技術痛點,閎康科技嚴格遵循國際光電與軍規可靠度規範,提供相對應的精密檢測解決方案,以全面滿足矽光子晶片的驗證需求。

 

需要注意的是上述量測與分析可支援 JESD264 導入過程中的性能監測與失效根因解析,但是否完整符合 JESD264,仍須依產品適用條款、測試條件、樣本計畫、判定標準及完整報告綜合確認。

 

驗證需求 關鍵觀察項目 閎康可支援的分析與量測
光電性能評估
(Electro-Optic Performance)
  • 晶圓級(Wafer-level)與晶片級(Die-level)基本光電特性
  • 光源耦合效率與波導傳輸損耗
  • 光電轉換效能(P-I-V   特性、響應度)
  • 整合 PIC 光電量測:配置高精度自動對光系統與光電同步測試模組,動態量測 PIC 元件在不同偏壓、波長與溫度下的光電轉換效率,確保主/被動元件符合設計規格。
  • 測試項目包括: O-O 傳輸測試、波長掃描、IL、RL、PDL、GC/EC 耦合測試、NIR 光損定位、OFA 光學失效分析、E-O/O-E 測試、眼圖、BER
環境與可靠度壽命驗證
(Environmental & Reliability)
  • 封裝結構因熱應力(CTE   mismatch)產生的形變
  • 極端環境下光路耦合的長期穩定性
  • 機構強度與界面分層(Delamination)風險

環境與機械應力測試:提供加速壽命試驗與機械應力測試,模擬晶片在嚴苛商用與工業環境下的可靠度,篩選潛在早期失效(Infant Mortality)。

光路異常與損耗定位與光學失效分析
    (Optical Loss Localization & Optical Failure Analysis)
  • 內部微米級光損耗(Optical   Loss)確切位置
  • 光波導內部斷裂、微裂紋(Micro-crack)或雜質污染
    受損或功能失效元件的微觀失效特徵
  • 光電耦合障礙與多層光導結構異常
  • 光子元件(如調變器、偵測器)的電學/光學異常機制
  • NIR 光損定位:利用近紅外光(NIR)顯微成像技術。由於矽材對近紅外光具備透明性,此技術能進行非破壞性穿透觀測,精確捕捉光路內部因缺陷產生的散射或吸收異常點。
  • OFA   光學失效分析:運用先進的光學失效分析(OFA)工具鏈,針對光訊號異常元件進行微區定位與缺陷解析,識別光場分布失真或光子元件材料變異引起的失效機制。
結構與材料根因分析
(Material & Root Cause)
  • 奈米級製程缺陷(如波導側壁粗糙度 Line Edge Roughness)
  • 材料界面擴散、元素變質、薄膜應力與晶格缺陷
  • 封裝固化收縮或微結構斷裂之微觀形貌
  • 非破壞性檢測:2D/3D X-ray、SAT、截面觀察、翹曲與應變量測
  • 材料與結構根因分析:導入高解析度透射電子顯微鏡(TEM)、掃描電子顯微鏡(SEM)及表面分析技術(如 EDS、XPS),提供奈米級、原子級的材料成分剖析與結構缺陷根因判定。

延伸服務:矽光子分析測試服務|PIC 分析、IL 量測與光損定位

 

 

JESD264 常見問題

Q1. JESD264 是什麼標準?
A . JESD264 是 JEDEC 制定的 Silicon Photonics Qualification and Reliability Requirements,針對矽光子晶粒、Chiplet、晶片組、多晶片模組及相關雷射整合配置,建立資格驗證與可靠度評估框架。
Q2. JESD264 是否取代 JESD22?
A . 不是。JESD22 系列提供多項半導體應力測試方法;JESD264 則從矽光子產品與整合架構出發,補充資格驗證策略、裝置範圍及應力前後的光電性能評估。
Q3. 哪些產品需要關注 JESD264?
A . 開發矽光子 PIC、光引擎、矽光子 Chiplet、MCM、NPO、CPO 或含雷射與增益晶片整合架構的企業,都可依產品用途評估 JESD264 的適用性。
Q4. 矽光子可靠度驗證只做環境應力測試嗎?
A . 不是。除了溫度、濕度、壽命與機械應力,也需建立應力前後的光學與電性基準,並在性能漂移或失效時進一步進行光學定位、結構與材料根因分析。
Q5. 閎康能否協助 JESD264 相關測試?
A . 閎康可依產品與驗證需求,支援 PIC 晶圓級光電測試、IL / RL / PDL、NIR 光損定位、OFA、主動元件測試、可靠度應力測試與材料失效分析,完整符合性仍須依 JESD264 適用條款與客戶產品規格確認。

 

JESD264 的發布,代表矽光子可靠度驗證開始從各企業分散的內部做法,走向產業可共用的資格與可靠度框架,對 AI 光互連、CPO 與高速光通訊產品而言,驗證重點不再只是元件是否通電,而是光學、電性、封裝與材料在應力後能否共同維持穩定,透過 JESD264 的架構思維,搭配可重複的 PIC 光電量測、可靠度應力測試與失效根因分析,企業可更早辨識設計、製程與封裝風險,提升矽光子產品由研發走向量產的驗證效率。

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