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故障分析
09.22
2026
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共同封裝光學(CPO)良率關鍵:拆解矽光子主被動元件的四大測試指標

隨著人工智慧與高速運算對資料傳輸速率的要求跨入 800G 甚至 1.6T 世代,傳統的銅線電傳輸已達到物理極限,將「電」轉為「光」的矽光子技術,以及CPO共同封裝光學已成為下世代半導體的標準配備。


然而矽光子與傳統半導體最大的不同,在於它必須同時處理「光、電、熱、機械」的跨領域互動,如果無法在晶圓階段就篩選出不良品,一旦進入高成本的 CPO 封裝階段才發現元件失效,將造成巨大的材料與成本浪費,本文將深入拆解如何透過先進的一站式自動化量測平台,完整涵蓋四大核心的矽光子測試項目。

 

  • O-O(光對光)測試:被動元件與傳輸品質的體檢

    O-O(Optical to Optical ,光進光出) 測試是指輸入與輸出皆為光訊號的測試流程,主要針對晶片上的被動光學元件(如光柵耦合器 Grating Coupler、波導 Waveguide、微環諧振器 MRR),量測指標包含:

     

    • 插入損耗(Insertion Loss, IL),IL評估光訊號在通過元件時的衰減程度。
    • 偏振相關損耗(Polarization Dependent Loss, PDL), PDL評估光訊號在不同偏振態對光損耗的影響。
    • 反射損耗(Return Loss, RL):用來衡量訊號在傳輸系統中反射回源頭的功率比例。
    • 漏光位置定位:精確找出物理缺陷,提供光學失效分析(OFA)的核心數據。
    • 直流半波電壓(Vπ):在不加交流信號的情況下,僅施加直流偏置電壓時,使輸出光信號的相位改變 π(即 180 度)所需的直流電壓值。
  • O-E(光對電)測試:高速光電探測器的特性分析

    O-E(Optical to Electrical ,光進電出)測試是指輸入光訊號,輸出電訊號的測試。

    • 光訊號傳輸到接收端後,必須透過光電探測器(如鍺矽光電探測器 Ge/Si PD)將其還原為電訊號。看它能否將光學訊號精準且快速地還原為電子訊號。
    • 動態參數測試:包含光電探測器的響應度與調變器消光比(Extinction Ratio, ER)。
    • 代表性測試項目Modulator EO S21 (電光轉換頻寬)定義為衡量光調變器將「輸入的電訊號」轉換為「輸出光訊號」的頻率響應能力。目的是確認調變器在高頻電訊號驅動下,光訊號的輸出功率是否會嚴重衰減。
    • 代表性測試項目PD OE S21 (光電轉換頻寬) 定義為衡量光電探測器(Photodiode, PD)將「輸入的光訊號」還原為「輸出電訊號」的頻率響應能力。目的是確認接收端的高速 photodiodes 可以跟上高速光脈衝的變化,而不會產生訊號失真。
  • E-O(電對光)測試:驗證主動調變的高效能

    E-O (Electrical to Optical,電進光出)是指輸入電訊號,輸出光訊號的測試。當電學訊號輸入時,主動光學元件(如馬赫-曾德爾調變器 MZM)必須能高效且不失真地將資料寫入光波之中,關鍵量測指標:

    • 光學眼圖(Optical Eye Diagram):用於觀察訊號波形的清晰度與完整性。
    • 消光比(Extinction Ratio, ER)與 光調變幅度 (OMA): 衡量光訊號「1」與「0」之間的對比度,比值越高代表錯誤率越低。
    • TDECQ: 評估高速光訊號在垂直與水平方向的訊號品質分散代價。

    測試重點|旨在驗證受電壓觸發時的光輸出強度、調變效率與相位變化,以確保數位電訊號能完美且精準地轉換為高速光脈衝。

  • E-E(電對電)測試:熱調諧與微型元件監控

    E-E (Electrical to Electrical ,電進電出)是指輸入電訊號,輸出電訊號的測試。
     
    • 矽光子晶片內部通常整合了微型加熱器或微環諧振器(Micro-ring modulator, MRM)等元件,對溫度極為敏感,這些元件用以微調光學元件的折射率與波長。E-E 測試旨在確保這些熱調諧電路與電子驅動晶片(EIC)的整合特性及功耗符合設計。
    • 量測項目包含 MPD(監控光電二極體)暗電流、Heater 阻值測試(Resistance)以及 Power-to-π Phase Shift(功率至 π 相移特性),能精確監控晶片在不同熱功耗下的電學與物理穩定性。

     

 

閎康矽光子量測導入自動化奈米級對準,跨越量產技術鴻溝

光學對準的容許誤差通常小於 50 奈米(nm),傳統手動或幾何掃描耗時過長,無法滿足工業量產需求,閎康科技矽光子量測整合 Hexapod 六軸微步定位器與奈米管技術,搭配全光譜影像系統與精密溫控晶圓座,讓研發與製程團隊能在毫秒內完成自動寻光與高重複性對準,完全模擬晶片在真實高溫工作環境下的物理與光電效能,透過全面、自動化的 O-O、E-O、O-E、E-E 測試流程,半導體廠得以便在晶圓級與裸晶(Chip/Die)階段精準篩選缺陷,大幅降低 CPO 封裝的良率風險,加速 1.6T及以上 產品的商用化進程。

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